靶材有哪些？靶實際上是一個寬泛的概念，靶材的三類劃分方法：1.按外形尺寸可分為圓柱形、長方形、正方形板靶和管靶。 按材質分靶材可分為金屬靶材、高分子陶瓷非金屬靶材和合金靶材等;2.按材質分靶材可分為常規(guī)金屬靶材，貴金屬靶材，稀土金屬靶材，非金屬靶材，合金濺射靶材，陶瓷濺射靶材等;3.按照應用領域可分為半導體用靶材、顯示面板用靶材、太陽能電池用靶材、磁記錄用靶材等。
按靶材形狀分類：
常見的靶材多為方靶、圓靶，均為實心靶材。在鍍膜作業(yè)中，圓環(huán)形的永磁體在靶材的表面產生的磁場為環(huán)形，會發(fā)生不均勻沖蝕現象，濺射的薄膜厚度均勻性不佳，靶材的使用效率大約只有20%～30%。而目前被推廣的空心管靶可繞固定的條狀磁鐵組件一定周期旋轉運動，360°靶面可被均勻刻蝕，優(yōu)勢明顯，將利用率提高到80%。
按靶材材質分類：
常規(guī)金屬靶材：
鋁靶材Al、銅靶材Cu、鉻靶材Cr、鋇靶材Ba、鉍靶材Bi、鎘靶材Cd、鋯靶材Zr、鋅靶材Zn、鎳靶材Ni、鈷靶材Co、鈣靶材Ca、鈮靶材Nb、銦靶材In、鎢靶材W、鉬靶材Mo、釩靶材V、鐵靶材Fe、鈦靶材Ti、鉿靶材Hf、釔靶材Y、鉭靶材Ta、鋰靶材Li、鎂靶材Mg、錫靶材Sn、錳靶材Mn、鉛靶材Pb、硅靶材Si、鋁靶材Al、鈹靶材Be、銅靶材Cu、鈧靶材Sc
貴金屬靶材：
銀靶材Ag、金靶材Au、鉑靶材Pt、鈀靶材Pd、銠靶材Rh、銥靶材Ir、錸靶材Re、釕靶材Ru
稀土金屬靶材：
鑭靶材La、鈰靶材Ce、鐠靶材Pr、釹靶材Nd、釤靶材Sm、銪靶材Eu、釓靶材Gd、鋱靶材Tb、鏑靶材Dy、鈥靶材Ho、鉺靶材Er、銩靶材Tm、鐿靶材Yb、镥靶材Lu
非金屬靶材：
石墨靶材C、硼靶材B、鍺靶材Ge、硒靶材Se、銻靶材Sb、碲靶材Te
合金濺射靶材：
鈦鋁合金靶材TiAl、鈦鎢合金靶材TiW、鎢鎳合金靶材WNi、鎳鉻合金靶材NiCr、鎳鈦合金靶材NiTi、鎳釩合金靶材NiV、鎳鐵合金靶材NiFe、鐵鈷鎳鈮合金靶材FeCoNiNb、鈷鐵硼合金靶材CoFeB、鐵錳合金靶材FeMn、鐵鎵合金靶材FeGa、銅鎵合金靶材CuGa、錳鎵合金靶材MnGa、鎢錸合金靶材WRe、銥錳合金靶材IrMn、銅銦鎵硒合金靶材CIGS、鉬錸合金靶材MoRe、銦錫合金靶材InSn、金錫合金靶材AuSn、金鍺鎳合金靶材AuGeNi、金鍺合金靶材AuGe、鋅鋁合金靶材ZnAl、鋁銅合金靶材AlCu、鋯鈦合金靶材ZrTi、銅鋅錫硫合金靶材CZTS、鈷鈮鋯合金靶材CoNbZr、鈷鉭鋯合金靶材CoTaZr、鋱鈷合金靶材TbCo、鋱鐵鈷合金TbFeCo
按靶材應用領域分類：
1、半導體應用領域細分
電極、布線薄膜（鋁靶材，銅靶材，金靶材，銀靶材，鈀靶材，鉑靶材，鋁硅合金靶材，鋁硅銅合金靶材等）；
儲存器電極薄膜（鉬靶材，鎢靶材，鈦靶材等）；粘附薄膜（鎢靶材，鈦靶材等）；電容器絕緣膜薄膜（鋯鈦酸鉛靶材等）。
2、磁記錄應用領域細分
垂直磁記錄薄膜（鈷鉻合金靶材等）； 硬盤用薄膜（鈷鉻鉭合金靶材，鈷鉻鉑合金靶材，鈷鉻鉭鉑合金靶材等）；
薄膜磁頭（鈷鉭鉻合金靶材，鈷鉻鋯合金靶材等）；人工晶體薄膜：（鈷鉑合金靶材，鈷鈀合金靶材等）。
3、光記錄應用領域細分
相變光盤記錄薄膜（硒化碲靶材，硒化銻靶材，鍺銻碲合金靶材，鍺碲合金靶材等）； 磁光盤記錄薄膜（鏑鐵鈷合金靶材，鋱鏑鐵合金靶材，鋱鐵鈷合金靶材，氧化鋁靶材，氧化鎂靶材，氮化硅靶材等）；光盤反射薄膜（鋁靶材，鋁鈦合金靶材，鋁鉻合金靶材，金靶材，金合金靶材等）。光盤保護薄膜（氮化硅靶材，氧化硅靶材，硫化鋅靶材等）。
4、顯示面板應用領域細分
透明導電薄膜（氧化銦錫靶材，氧化鋅鋁靶材等）；電極布線薄膜（鉬靶材，鎢靶材，鈦靶材，鉭靶材，鉻靶材，鋁靶材，鋁鈦合金靶材，鋁鉭合金靶材等） 電致發(fā)光薄膜（硫化鋅摻錳靶材，硫化鋅摻鋱靶材，硫化鈣摻銪靶材，氧化釔靶材，氧化鉭靶材，鈦酸鋇靶材等）。
5、其他應用領域細分
裝飾薄膜（鈦靶材，鋯靶材，鉻靶材，鈦鋁合金靶材，不銹鋼靶材等）；
低電阻薄膜（鎳鉻合金靶材，鎳鉻硅合金靶材，鎳鉻鋁合金靶材，鎳銅合金靶材等）；超導薄膜（釔鋇銅氧靶材，鉍鍶鈣銅氧靶材等）；
工具鍍薄膜（氮化物靶材，碳化物靶材，硼化物靶材，鉻靶材，鈦靶材，鈦鋁合金靶材，鋯靶材，石墨靶材等）。
