鉭顆粒是一種金屬鉭的粉末狀態(tài)?，化學(xué)符號(hào)為Ta，屬于鋼灰色金屬，具有極高的抗腐蝕性。鉭的熔點(diǎn)為2996℃，沸點(diǎn)為5425℃，原子序數(shù)為73，位于元素周期表的VB族。鉭在冷熱條件下對(duì)鹽酸、濃硝酸及王水都不反應(yīng)，顯示出其優(yōu)良的化學(xué)穩(wěn)定性。鉭顆粒的應(yīng)用廣泛，包括但不限于作為電子束蒸發(fā)的材料、添加劑或?qū)嶒?yàn)用，以及作為高純度鉭鍍膜顆粒等。
鉭顆粒的純度對(duì)其應(yīng)用很重要。高純度的鉭顆粒在真空鍍膜過程中被廣泛使用，因?yàn)槠涓呒兌饶軌驕p少雜質(zhì)對(duì)鍍膜質(zhì)量的影響，保證材料表面的均勻性和穩(wěn)定性。此外，鉭顆粒還具有良好的機(jī)械性能，能夠增加鍍膜層的強(qiáng)度和硬度，提高材料的耐磨損性。在真空鍍膜技術(shù)中，高純度鉭顆粒不僅用作鍍膜材料的制備原料，還作為催化劑的載體，從而提高材料表面的耐腐蝕性和附著力。
真空鍍膜技術(shù)是一種常用的表面處理技術(shù)，已廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)、材料等領(lǐng)域。通過真空蒸發(fā)或?yàn)R射金屬、合金或化合物并將其沉積在被鍍膜物體上，形成固體薄膜，從而改善或獲得特定表面特性。鉭顆粒的高純度和良好的機(jī)械性能使其成為真空鍍膜技術(shù)的理想選擇。
